嵌入式膜厚仪-椭偏仪-膜厚测量仪-椭圆偏振光谱仪 是测量当线性偏振光照射到样品时反射光（椭圆偏振）时偏振的变化。当s和p波根据样本分别改变其相位和反射幅度时，可以获得量化偏振变化的幅度比“tanψ”和相位差“cosΔ”。 tanψ，cosΔ称为“椭圆参数”，其光谱通过“光谱椭偏仪”进行测量。Otsuka FE-5000/5000S膜厚测量仪除了基本的光谱椭圆仪系统外，自动角度调节机构还可以针对各种厚度进行高精度的膜厚测量。 可拆卸的缓速器和旋转分析仪还拓宽了可供测量的选择范围，并提高了测量精度。测量范围包括：椭圆参数（tanψ，cosΔ），光学常数分析（和：折射率，k：消光系数），厚度分析。

产品亮点：

• 椭圆光度法测量可见光和紫外线范围（250-800nm）
• 纳米级薄膜厚度
• 使用多通道光谱仪（超过400ch）进行快速测量
• 角度可调机构进行详细分析
• 通过光学常数数据库和配方注册功能实现高度可操作性
• 使用多层拟合分析进行光学常数测量，以控制膜厚度和膜性能

应用范围：

• 半导体晶圆(栅氧化薄膜，氮化膜 SiO2，SixOy，SiN，SiON，SiNx，Al2O3，SiNxOy，多晶硅，ZnSe，BPSG，TiN 每种波长下抗蚀剂的光学常数)
• 复合半导体(AlxGa（1-x）As多层膜，非晶硅)
• FPD（平板显示器）(定向膜 ITO，MgO用于等离子显示器)
• 新材料(DLC（类金刚石），超导薄膜，磁头薄膜)
• 光学薄膜(TiO2，SiO2，多层膜，减反射膜，反射膜)
• 平版印刷(g射线（436nm），h射线（405nm），i射线（365nm），KrF（248nm）的光学常数 每种波长下抗蚀剂的光学常数)

技术参数：

• 测量样品：反光样品
• 样品尺寸：100x100mm
• 基本原理：旋转分析仪方法
• 膜厚范围：0.1 nm
• 照射（反射）角度：45～90°
• 照射（反射）角驱动方式：自动正弦驱动
• 点径：φ2.0/1.2
• tanψ精度：< ±0.01
• cosΔ精度：< ±0.01
• 可重复性：< 0.01%
• 波长范围：300-800nm/250-800 nm
• 探测器：多色仪（PDA, CCD）
• 光源：高稳定性氙气灯
• 平台驱动方式：手动/自动
• 尺寸：650（W)×400（D)×560（H）mm/1300（W)×900（D)×1750（H）mm
• 重量：50kg/350kg
• 软件分析：最小二乘薄膜分析（反射系数模型函数，Cauchy色散模型，nk-Cauchy色散模型）
• 理论分析（体表面分析（n.k.），角度相关性的同时分析

测量案例：

使用梯度模型进行ITO结构分析---应用FE0006。ITO（铟锡氧化物）是用于LCD显示器等平面显示器的透明电极材料。 ITO的成膜后，通过退火处理（热处理），可以提高ITO的导电性和色相。 那时，ITO的氧状态和结晶状态将发生变化。 该变化趋于相对于膜厚度逐步获得斜率变化，并且它不会变成光学组成均一的单层。 我们想介绍一种使用梯度模型来测量上下表面nk的倾斜度的情况。

嵌入式膜厚仪-椭偏仪-膜厚测量仪-椭圆偏振光谱仪最先出现在主动减振台-光谱辐射计-自相关仪-标准灯箱-固润光电。

显微分光膜厚仪OPTMseries-光学膜厚仪-光学膜厚测试仪 是一套快速、准确的显微分光膜厚测量仪，通过测量显微区域的绝对光谱反射率，能够非常精确地分析薄膜厚度和光学常数，可以在多层薄膜和薄膜，晶片和光学材料等各种涂层上进行非破坏性和非接触式厚度测量，测量速度可达1秒/点。可以测量的技术参数包括：绝对反射率测量厚度分析，光学常数分析（n：折射率k：消光系数）。

工作原理：

Otsuka使用光干涉法和高性能光谱仪提供高精度的非接触式和非破坏性厚度测量。光干涉法是使用分光光度计光学器件反射率的光学厚度分析技术。 以金属基材上的涂膜为例，从上方照射的光束在涂层表面（R1）上反射。此外，透射光束在基材或边界（R2）上反射。根据由光程差和相移引起的光干涉行为，可以使用反射光谱和折射率来计算膜厚度。分析算法为峰谷法，快速傅里叶变换（FFT）方法，非线性最小二乘法和优化方法。

OPTM系列膜厚测量所需的所有功能都集成在测量头中，可使用显微镜进行高精度的绝对反射率测量（多层膜的厚度和光学常数）。这款光学系统，可使用显微镜在宽波长范围（紫外至近红外）进行测量每点少于1秒的高速测量并且配有带区域传感器的安全装置。简易分析向导，任何人，甚至未经培训的操作人员，都可以轻松进行光学常数分析。软件程序包括用于定制测量序列的宏功能，可以进行各种自定义。

技术参数：

测量参数

• 光谱范围：230~800nm/360~1100nm/900~1600nm
• 膜厚范围：1nm~35μm/7nm~49μm/16nm~92μm
• 样品尺寸：Max. 200 x 200 x 17 mm
• 点径：φ5μm（反射40倍镜头），改造后可达3μm
• 测量时间：1秒/点
• 尺寸：本体（W555xD537xH559mm），控制单元（W500xD180xH288mm）
• 功耗：750VA
• 可选电压：AC 90 -110 V / 200-240 V

自动XY平台类型：

• 尺寸(WDH)：556×566×618mm
• 重量：66kg
• 最大功耗：500VA

固定框架类型：

• 尺寸(WDH)：368×468×491mm
• 重量：38kg
• 最大功耗：400VA

内置测量头类型：

• 尺寸(WDH)：210×441×474mm/90×250×190mm
• 重量：23/4 kg
• 最大功耗：400VA

升级选项： 

• 光谱仪规格可选（OPTM-A1/OPTM-A2/OPTM-A3）
• 根据具体测试需求，接受定制

测量案例：

显微分光膜厚仪OPTMseries-光学膜厚仪-光学膜厚测试仪最先出现在主动减振台-光谱辐射计-自相关仪-标准灯箱-固润光电。