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嵌入式膜厚仪-椭偏仪-膜厚测量仪-椭圆偏振光谱仪

嵌入式膜厚仪-椭偏仪-膜厚测量仪-椭圆偏振光谱仪

浏览次数:439 分类:Maxmile/Otsuka

品牌:Otsuka 型号:FE-5000/5000S

椭圆偏振法测量当线性偏振光照射到样品时反射光(椭圆偏振)时偏振的变化。 当s和p波根据样本分别改变其相位和反射幅度时,可以获得量化偏振变化的幅度比“tanψ”和相位差“cosΔ”。 tanψ,cosΔ称为“椭圆参数”,其光谱通过“光谱椭偏仪”进行测量。Otsuka FE-5000/5000S膜厚测量仪除了基本的光谱椭圆仪系统外,自动角度调节机构还可以针对各种厚度进行高精度的膜厚测量。 可拆卸的缓速器和旋转分析仪还拓宽了可供测量的选择范围,并提高了测量精度。测量范围包括:椭圆参数(tanψ,cosΔ),光学常数分析(和:折射率,k:消光系数),厚度分析。

嵌入式膜厚仪-椭偏仪-膜厚测量仪-椭圆偏振光谱仪 产品描述:

嵌入式膜厚仪-椭偏仪-膜厚测量仪-椭圆偏振光谱仪 是测量当线性偏振光照射到样品时反射光(椭圆偏振)时偏振的变化。当s和p波根据样本分别改变其相位和反射幅度时,可以获得量化偏振变化的幅度比“tanψ”和相位差“cosΔ”。 tanψ,cosΔ称为“椭圆参数”,其光谱通过“光谱椭偏仪”进行测量。Otsuka FE-5000/5000S膜厚测量仪除了基本的光谱椭圆仪系统外,自动角度调节机构还可以针对各种厚度进行高精度的膜厚测量。 可拆卸的缓速器和旋转分析仪还拓宽了可供测量的选择范围,并提高了测量精度。测量范围包括:椭圆参数(tanψ,cosΔ),光学常数分析(和:折射率,k:消光系数),厚度分析。

嵌入式膜厚仪-椭偏仪-膜厚测量仪-椭圆偏振光谱仪

产品亮点:

  • 椭圆光度法测量可见光和紫外线范围(250-800nm)
  • 纳米级薄膜厚度
  • 使用多通道光谱仪(超过400ch)进行快速测量
  • 角度可调机构进行详细分析
  • 通过光学常数数据库和配方注册功能实现高度可操作性
  • 使用多层拟合分析进行光学常数测量,以控制膜厚度和膜性能

 

应用范围

  • 半导体晶圆(栅氧化薄膜,氮化膜 SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,多晶硅,ZnSe,BPSG,TiN 每种波长下抗蚀剂的光学常数)
  • 复合半导体(AlxGa(1-x)As多层膜,非晶硅)
  • FPD(平板显示器)(定向膜 ITO,MgO用于等离子显示器)
  • 新材料(DLC(类金刚石),超导薄膜,磁头薄膜)
  • 光学薄膜(TiO2,SiO2,多层膜,减反射膜,反射膜)
  • 平版印刷(g射线(436nm),h射线(405nm),i射线(365nm),KrF(248nm)的光学常数 每种波长下抗蚀剂的光学常数)

 

技术参数:

  • 测量样品:反光样品
  • 样品尺寸:100x100mm
  • 基本原理:旋转分析仪方法
  • 膜厚范围:0.1 nm
  • 照射(反射)角度:45~90°
  • 照射(反射)角驱动方式:自动正弦驱动
  • 点径:φ2.0/1.2
  • tanψ精度:< ±0.01
  • cosΔ精度:< ±0.01
  • 可重复性:< 0.01%
  • 波长范围:300-800nm/250-800 nm
  • 探测器:多色仪(PDA, CCD)
  • 光源:高稳定性氙气灯
  • 平台驱动方式:手动/自动
  • 尺寸:650(W)×400(D)×560(H)mm/1300(W)×900(D)×1750(H)mm
  • 重量:50kg/350kg
  • 软件分析:最小二乘薄膜分析(反射系数模型函数,Cauchy色散模型,nk-Cauchy色散模型)
  • 理论分析(体表面分析(n.k.),角度相关性的同时分析

 

测量案例:

使用梯度模型进行ITO结构分析—应用FE0006。ITO(铟锡氧化物)是用于LCD显示器等平面显示器的透明电极材料。 ITO的成膜后,通过退火处理(热处理),可以提高ITO的导电性和色相。 那时,ITO的氧状态和结晶状态将发生变化。 该变化趋于相对于膜厚度逐步获得斜率变化,并且它不会变成光学组成均一的单层。 我们想介绍一种使用梯度模型来测量上下表面nk的倾斜度的情况。

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