EpiEL测试仪-光致发光电致发光测试仪-Maxmile

EpiEL测试仪-光致发光电致发光测试仪-Maxmile 产品描述：

EpiEL测试仪-光致发光电致发光测试仪-Maxmile 无需任何高成本和耗时的设备制造，即可使未加工发光材料作为成品设备（如LED）通过电致发光测量，无损检测且测量快速。凭借这种独特的性能，MaxMile EpiEL技术为光电（特别是固态照明）行业提供了前所未有的电致发光解决方案，带来了新的性能和更高的效率。它结合了优异的性能、多功能性和可靠性，易于学习操作。

以光电方面的基本应用研究&发展为前提，Maxmile电致发光映射系统开发了以下功能：

• 晶片设备性能测量；
• 无损快速的电致发光技术和晶片级电致发光映射技术；
• 材料动向的快速反馈；
• 无晶片材料和系统的开发；

在工业产品的开发，工艺监测和质量监控方面，电致发光映射系统在质量监控和成本效益中有优异的权衡：

• 为方法的改进、进度和系统优化提供及时响应；
• 为材料增长提供设备质量控制；
• 在晶片评估/筛选到设备排序之间，启用高容量特性化；

广泛应用于不同材料：电致发光映射系统设计可以用于任何具备电致发光功能的半导体基发光外延材料，无论是LD或LED的材料结构。

主要特征：

• 晶片电致发光测试
• 快速EL和EL映射
• 无损检测、快速测量
• 图形系统化控制
• 直观的系统软件
• 一键式操作
• 无需样品制备，高生产率
• 探针自动初始化
• 自动化wafer-size识别
• 大屏幕显示，易使用且更高效
• 高度定制的系统配置
• 多功能探针
• 可根据不同的测试需求选择探针
• 自动生成报告
• 灵活地显示测试结果
• 广泛的数据分析套装软件

EpiEL测试仪-光致发光电致发光测试仪-Maxmile 技术参数：

• 晶片尺寸： 2，3，4英寸晶片（定制可达12英寸）。
• 机台运动控制：精度< 6微米，步分辨率< 0.5微米。
• 光检测：传输模式标准；反射模式将是可选的（与不透明衬底的样品） 。
• 探针类型：I型和II型。
• 探针台：实验室或生产版本。
• 扫描速度：根据应用程序，每100采样点约4-20分钟
• 采样点：最终用户指定采样点数量和每个点的光/电测量。
• 测试模式：快速发光或发光映射模式。
• 映射类型：共发射强度，外部量子效率，峰值波长或强度，或给定驱动电流或电压的半高宽，给定的驱动电流或特定波长的发光强度，等等。其他LED参数映射值可以自定义。
• 曲线类型：在特定电流/电压的发光光谱来看，当前或放射性强度与电压（ LIV ），输出特点：强度与驱动电流，半峰全宽或峰波长与驱动等。
• 映射颜色编码：彩虹色，渐变色，二元色，温度，灰色或其它由最终用户指定的颜色类型。
• 波长检测： UV / VIS或VIS / IR ，或自定义。
• 电流测量：标准> 10E -6A ，可选项> 10E -12A。
• 选项：PL特性（ EL -300 ），增强的电气特性（ EL-500 ），反向漏特性，LD特性。