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显微分光膜厚仪OPTMseries-光学膜厚仪-光学膜厚测试仪
浏览次数:3041 分类:Maxmile/Otsuka 光学膜厚测试仪
膜厚仪-Otsuka是一套快速、准确的显微分光膜厚测量仪，通过测量显微区域的绝对光谱反射率，能够非常精确地分析薄膜厚度和光学常数，非破坏性和非接触式厚度测量可以在多层膜和各种涂层上进行，包括薄膜、晶圆片和光学材料等，测量速度可达1秒/点。
显微分光膜厚仪OPTMseries-光学膜厚仪-光学膜厚测试仪 产品描述：
显微分光膜厚仪OPTMseries-光学膜厚仪-光学膜厚测试仪 是一套快速、准确的显微分光膜厚测量仪，通过测量显微区域的绝对光谱反射率，能够非常精确地分析薄膜厚度和光学常数，可以在多层薄膜和薄膜，晶片和光学材料等各种涂层上进行非破坏性和非接触式厚度测量，测量速度可达1秒/点。可以测量的技术参数包括：绝对反射率测量厚度分析，光学常数分析（n：折射率k：消光系数）。
工作原理：
Otsuka使用光干涉法和高性能光谱仪提供高精度的非接触式和非破坏性厚度测量。光干涉法是使用分光光度计光学器件反射率的光学厚度分析技术。 以金属基材上的涂膜为例，从上方照射的光束在涂层表面（R1）上反射。此外，透射光束在基材或边界（R2）上反射。根据由光程差和相移引起的光干涉行为，可以使用反射光谱和折射率来计算膜厚度。分析算法为峰谷法，快速傅里叶变换（FFT）方法，非线性最小二乘法和优化方法。
OPTM系列膜厚测量所需的所有功能都集成在测量头中，可使用显微镜进行高精度的绝对反射率测量（多层膜的厚度和光学常数）。这款光学系统，可使用显微镜在宽波长范围（紫外至近红外）进行测量每点少于1秒的高速测量并且配有带区域传感器的安全装置。简易分析向导，任何人，甚至未经培训的操作人员，都可以轻松进行光学常数分析。软件程序包括用于定制测量序列的宏功能，可以进行各种自定义。
显微分光膜厚仪OPTMseries-光学膜厚仪-光学膜厚测试仪 产品亮点：
- 快速测量＜1s/point
- 波长范围覆盖广
- 通过区域传感器控制，安全可靠
- 对样品友好，非接触和非破坏性测试
- 软件界面友好，易操作
- 可根据具体需求定制
应用范围：
- 测量各类薄膜的绝对反射率、膜厚解析、光学常数解析等
技术参数：
测量参数
- 光谱范围：230~800nm/360~1100nm/900~1600nm
- 膜厚范围：1nm~35μm/7nm~49μm/16nm~92μm
- 样品尺寸：Max. 200 x 200 x 17 mm
- 点径：φ5μm（反射40倍镜头），改造后可达3μm
- 测量时间：1秒/点
- 尺寸：本体（W555xD537xH559mm），控制单元（W500xD180xH288mm）
- 功耗：750VA
- 可选电压：AC 90 -110 V / 200-240 V
自动XY平台类型：
- 尺寸(WDH)：556×566×618mm
- 重量：66kg
- 最大功耗：500VA
固定框架类型：
- 尺寸(WDH)：368×468×491mm
- 重量：38kg
- 最大功耗：400VA
内置测量头类型：
- 尺寸(WDH)：210×441×474mm/90×250×190mm
- 重量：23/4 kg
- 最大功耗：400VA
升级选项：
- 光谱仪规格可选（OPTM-A1/OPTM-A2/OPTM-A3）
- 根据具体测试需求，接受定制
测量案例：
